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SolarPaq  Thermal Profiling System

PECVD减反射涂层

制造薄膜太阳能电池板时需要在真空沉积过程中进行玻璃涂装。PECVD工艺中的氮化硅被用来涂装硅太阳能电池以形成减反射层。

应用点 

要获取最佳产能,就必须测量过程中的温度均匀性。问题是如何测量基体 (substrate) 温度,因为基体是在真空室内涂装并关闭的。

对客户的好处 
  • 测量过程室各处的产品温度均匀性
  • 通过降低能源成本和/或增加产量来优化过程
  • 快速方便地排除过程故障
  • 追踪过程稳定性
热分析系统
  • 创新的设计,利用反光板所以没有气体-理想的真空工艺;
  • 特别设计,可使用在等离子体活化环境,所以测量的是真实的温度;
  • 高真空条件下,最高耐受温度高达600C

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