PECVD减反射涂层
制造薄膜太阳能电池板时需要在真空沉积过程中进行玻璃涂装。PECVD工艺中的氮化硅被用来涂装硅太阳能电池以形成减反射层。
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应用点
要获取高产能,就必须测量过程中的温度均匀性。问题是如何测量基体 (substrate) 温度,因为基体是在真空室内涂装并关闭的。
对客户的好处
- 测量过程室各处的产品温度均匀性
- 通过降低能源成本和/或增加产量来优化过程
- 快速方便地排除过程故障
- 追踪过程稳定性


制造薄膜太阳能电池板时需要在真空沉积过程中进行玻璃涂装。PECVD工艺中的氮化硅被用来涂装硅太阳能电池以形成减反射层。
要获取高产能,就必须测量过程中的温度均匀性。问题是如何测量基体 (substrate) 温度,因为基体是在真空室内涂装并关闭的。