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制造薄膜太阳能电池板时需要在真空沉积过程中进行玻璃涂装。PECVD工艺中的氮化硅被用来涂装硅太阳能电池以形成减反射层。
要获取高产能,就必须测量过程中的温度均匀性。问题是如何测量基体 (substrate) 温度,因为基体是在真空室内涂装并关闭的。